ZDR系列

ZDR系列獨立型氣浮隔振光學(xué)平臺

韓國DAEIL（大一）獨立型氣浮支架，隔振性能好，擺放位置靈活。適合大部分對隔振要求很高的光學(xué)實驗，或放置較重的設(shè)備。

產(chǎn)品咨詢

產(chǎn)品概述

韓國DAEIL（大一）獨立型氣浮支架，隔振性能好，擺放位置靈活。適合大部分對隔振要求很高的光學(xué)實驗，或放置較重的設(shè)備。
命名規(guī)則：

特點：

• 韓國DAEIL（大一）獨立型氣浮支架，隔振性能好，擺放位置靈活。

• 標準臺面上臺板材料為SUS430（1Cr17 ）高導(dǎo)磁不銹鋼，臺面也可選擇整體材料為SUS304弱磁不銹鋼面包板，臺面也可選擇整體材料為SUS316極弱磁不銹鋼面包板。

• 表面經(jīng)過亞光處理，可有效減少雜散光。

• 側(cè)面為藍色PU皮革，美觀、實用，四角用不銹鋼板包角。

• 自動充氣，自動平衡，響應(yīng)時間短，平衡速度快。

• 隔振效果好、負載能力強的科研級氣浮隔振光學(xué)平臺。

ZDR系列獨立型氣浮隔振光學(xué)平臺應(yīng)用領(lǐng)域：

• 對隔振要求很高的光學(xué)實驗，或放置較重設(shè)備，如干涉測量、超快光學(xué)、量子光學(xué)、精密光譜實驗、大裝置等。

技術(shù)指標：

• 固有頻率：豎直方向＜ 1.2~3Hz ；水平方向＜ 1.2~3Hz

• 平面度：0.02~0.05mm/600mm×600mm

• 臺面：上臺板4~6mm厚不銹鋼

• 底板：下底板4~6mm厚，表面噴黑塑處理

• 臺面厚度：100/200/300mm，詳見選型表

• 臺面加支架總高度800mm，總高度可調(diào)范圍：-10~+15mm

• 孔距：25mm×25mm

• 最邊緣孔距邊：37.5mm

• 孔徑：M6

• 臺面重量：100mm厚臺面約：120Kg/m2

200mm厚臺面約：140Kg/m2

300mm厚臺面約：167Kg/m2

細節(jié)說明：

其它配件：

ZDR系列獨立型氣浮隔振光學(xué)平臺選型表：