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NAP系列

NAP系列氣浮隔振光學平臺

NAP系列是卓立漢光采用三線擺技術、層流阻尼技術所設計的高性能氣浮隔振平臺，豎直方向和水平方向隔振性能好、振動恢復時間短。

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NAP系列是卓立漢光采用三線擺技術、層流阻尼技術所設計的高性能氣浮隔振平臺，豎直方向和水平方向隔振性能好、振動恢復時間短。

NAP系列氣浮隔振光學平臺特點：

• 引入對隔振有較好效果的三線擺系統。

• 采用層流阻尼元件，系統反應更靈敏。

• 自帶四角防護板，具有臺面氣浮高度指示功能，調節更便捷。

• 標準臺面上臺板材料為SUS430（1Cr17 ）高導磁不銹鋼，臺面也可選擇整體材料為SUS304弱磁不銹鋼面包板，臺面也可選擇整體材料為SUS316極弱磁不銹鋼面包板。

應用領域：
• 用來放置對隔振要求很高的精密光學儀器，如高分辨顯微鏡、激光共聚焦顯微鏡，也常用于光通訊行業，搭建小型光路等。

NAP系列氣浮隔振光學平臺命名規則：

技術指標：

• 固有頻率：垂直方向＜1.5~2.5Hz；水平方向＜1~1.5Hz

• 隔振效率：垂直方向：5Hz時：75~92%；10Hz時：90%~95%

水平方向：5Hz時：88~94%；10Hz時：92%~98%

• 隔振方式：三線擺隔振系統

• 阻尼方式：層流阻尼

• 工作臺面：三層夾心式蜂窩結構（可選配蜂窩粘接式帶隔離杯臺面）

• 表面平面度：焊接式臺面：0.02~0.05mm/600mm×600mm

粘接式臺面：0.1mm/600mm×600mm

• 臺面厚度：100mm

• 臺面：上臺板4~6mm厚不銹鋼

• 底板：下底板4~6mm厚，表面噴黑塑處理

• 側面包飾：焊接臺面為藍色皮革；粘接臺面為黑色皮革；

• 安裝孔：M6

• 孔距：25mm×25mm

• 安裝孔距邊：37.5mm

• 臺面加支架總高度：800mm

• 總高度可調范圍：-10~+15mm

• 支架負載：500kg

• 單個隔振腿負載：125kg

• 最大空氣壓力：0.6MPa

• 建議工作空氣壓力：0.3~0.4MPa

• 水平重復精度：±0.5mm

細節說明：

其它配件：

選型表：（本系列-K型號為設計規格，技術指標以最終發布內容為準）

產品型號	整體規格(mm)	臺面厚度(mm)	臺面自重(Kg)	支撐腿截面積(mm)	支架負載能力(Kg)	備注
NAP10-08	1000×800×800	100	96	100×100	500	4支撐
NAP12-08	1200×800×800	100	115	100×100	500	4支撐
NAP12-09	1200×900×800	100	130	100×100	500	4支撐
NAP12-10	1200×1000×800	100	144	100×100	500	4支撐
NAP12-12	1200×1200×800	100	173	100×100	500	4支撐
NAP15-09	1500×900×800	100	162	100×100	500	4支撐
NAP15-10	1500×1000×800	100	180	100×100	500	4支撐
NAP15-12	1500×1200×800	100	216	100×100	500	4支撐
NAP10-08-K	1000×800×800	100	92	100×100	500	4支撐
NAP12-08-K	1200×800×800	100	111	100×100	500	4支撐
NAP12-09-K	1200×900×800	100	124	100×100	500	4支撐
NAP12-10-K	1200×1000×800	100	138	100×100	500	4支撐
NAP12-12-K	1200×1200×800	100	166	100×100	500	4支撐
NAP15-09-K	1500×900×800	100	155	100×100	500	4支撐
NAP15-10-K	1500×1000×800	100	173	100×100	500	4支撐
NAP15-12-K	1500×1200×800	100	207	100×100	500	4支撐

尺寸圖：

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